超音波洗浄装置の構造

1。一般的な超音波洗浄機
超音波洗浄機の構造には、一般に2つの形式があります。超音波電源と洗浄機は統合または分離されています。一般的に、低電力（200W未満）クリーニングマシンは統合された構造を使用しますが、高出力クリーニングマシンはスプリット構造を使用します。
超音波洗浄機の分割構造は、3つの主要な部分で構成されています。（1）洗浄タンク。 （2）超音波発生器。 （3）超音波トランスデューサー。
超音波洗浄機で使用される超音波発電機には、次の特性があります。
（1）洗浄液の深さにより、トランスデューサーの共振周波数とインピーダンスは大きく異なります。ただし、練習では、適切な量の洗浄材をタンクに入れた後、基本的に特定の値で安定する可能性があることが示されています。
（2）一般的に言えば、クリーニング荷重はほとんど変化しないため、複雑な周波数自動追跡回路は必要ありません。
（3）ほとんどの実用的な超音波発電機は、高出力の自己感情フィードバック発振器を使用しています。
2。特別な超音波クリーニングマシン
通常、特定の特定のオブジェクトをクリーニングするために、生産ラインにインストールされます。
典型的なソフト磁気デバイス超音波洗浄装置はじめに：洗浄するオブジェクトは、飼料ポートから駆動し、噴霧、乾燥、その他のプロセスの後に排出されるステンレス鋼の特別なメッシュベルトを洗浄するために超音波洗浄タンクに送られます。クリーニングされたオブジェクトを直接パッケージ化して保存できるようにします。
各プロセスの簡単な説明は次のとおりです。
feeding給：オブジェクトの摂食は半自動である可能性があります
piezoelectric transducer：国内外のほとんどの超音波洗浄機は、L字型構造を持つ圧電トランスデューサーを使用しています。このトランスデューサーは、一般に2つの圧電セラミックチップで構成されています。クリーニングマシンは複数のトランスデューサーを使用します。複数のトランスデューサーは、接着剤を備えたクリーニングタンクの底に接着され、並列に接続されてクリーニングマシン用のトランスデューサーを形成します。トランスデューサー要素間の距離（20kh4の周波数の場合、一般に5-10 mm。大きすぎる場合、曲げ振動を生成するのは簡単で、振動プレートが腐食し、放射表面が比較的腐食します。減少。
一般的な超音波クリーニングマシンは、洗浄部品に非常に適用可能であり、電子機器、時計、光学、機械、自動車、航空、原子エネルギー産業、医療機器などの多くの産業で広く使用されています。特別な超音波クリーニング機は、一般的に設置されています。特定の特定のオブジェクトをクリーニングするための生産ライン。柔らかい磁気デバイス用の典型的な超音波洗浄装置は、散布、乾燥、その他のプロセスの後、材料を排出し、洗浄したオブジェクトを直接パッケージ化して保存できるようにします。
また、洗浄液として有機溶媒を使用する超音波蒸気位相洗浄機もあり、汚れを溶解する強力な能力を持ち、特に高い洗浄要件を持つ半導体チップやその他のオブジェクトをきれいにするために使用されます。